描述：

化学蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

①. 曝光法（适用于精密蚀刻）：工程根据图形开出备料尺寸-材料准备-材料清洗-烘干→贴膜或涂布→烘干→曝光→ 显影→烘干-蚀刻→去膜→出料

②. 网印法：开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→丝网印→蚀刻→脱膜→出料

本机为两窗全压力表蚀刻机有效蚀刻区2米，蚀刻区每根喷淋管单独压力表控制，适用于精密蚀刻生产。

产品效果图